2022山東師范大學(xué)光學(xué),光學(xué)工程,物理學(xué)考研調(diào)劑信息：主要研究方向：表面離激元與微納光子學(xué)，微納結(jié)構(gòu)制備技術(shù)，納米材料的光學(xué)性質(zhì)。在半導(dǎo)體、光學(xué)AR/VR方向就業(yè)前景廣闊。

導(dǎo)師介紹：
http://www.physics.sdnu.edu.cn/info/1172/6657.htm

課題組所在的光場(chǎng)調(diào)控及應(yīng)用中心位于山東師范大學(xué)文淵樓D區(qū)，配備咖啡廳等休閑區(qū)域，辦公區(qū)域開闊。

實(shí)驗(yàn)室設(shè)備齊全，日常操作各種高精尖微納制備設(shè)備，培養(yǎng)科研動(dòng)手和解決問題的能力，尤其適合喜愛挑戰(zhàn)自己的同學(xué)。

（1）物理學(xué)學(xué)術(shù)型：英語一，量子力學(xué)，普物
或者（2）光學(xué)工程：初試專業(yè)課為數(shù)學(xué)一（學(xué)術(shù)）、數(shù)學(xué)二（專業(yè)）、光學(xué)。復(fù)試科目統(tǒng)一為模擬電路。

平常需要在超凈室內(nèi)做微納米制備(半導(dǎo)體集成工藝，電子束曝光，等)或者光學(xué)測(cè)試(涉及顯微光譜、飛秒激光等)。
需要較強(qiáng)的動(dòng)手能力，吃苦耐勞，肯鉆研學(xué)術(shù)。


郵件標(biāo)題格式：本科畢業(yè)學(xué)校 + 本科專業(yè) + 英語一xx分 + 數(shù)學(xué)一xx分
附材料：詳細(xì)簡(jiǎn)歷+本科成績(jī)單，不要任何壓縮包

本科主干課程包含物理光學(xué)、半導(dǎo)體物理與器件、固體物理、電磁場(chǎng)理論或相關(guān)課程至少一門；英語cet-6, 單片機(jī)、fpga、arm等開發(fā)經(jīng)驗(yàn)，或其他實(shí)驗(yàn)室科研經(jīng)歷


實(shí)驗(yàn)室設(shè)備介紹：http://www.gctk.sdnu.edu.cn/yqsb.htm

電子束曝光系統(tǒng)
品牌及型號(hào)：德國Raith Voyager (http://www.raithchina.com/products/voyager.html)

        50kV電子束曝光系統(tǒng)（electron beam lithography）是用電子束照射光刻膠，經(jīng)顯影后在光刻膠中產(chǎn)生圖形的一種微納加工技術(shù)，曝光精度達(dá)到納米量級(jí)，具有超高分辨率，并且實(shí)現(xiàn)高速曝光的同時(shí)系統(tǒng)良好的穩(wěn)定性可以保證大面積均勻曝光，支持周期結(jié)構(gòu)無寫場(chǎng)拼接的曝光模式。



電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)
品牌及型號(hào)：美國Detech公司DE500C (http://deproducts.com/products/id-14.html)

        電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)是一種適合于前沿研究的薄膜制備技術(shù)，在真空條件下電子槍燈絲加熱后發(fā)射熱電子，被加速陽極加速，獲得很大的動(dòng)能并且準(zhǔn)確轟擊坩堝內(nèi)靶材，使靶材融化進(jìn)而蒸鍍?cè)诨咨闲纬杀∧ぁｋ娮邮舭l(fā)源的能量可高度集中，使鍍膜材料局部達(dá)到高溫而蒸發(fā)。通過調(diào)節(jié)電子束的功率，可以方便的控制鍍膜材料的蒸發(fā)速率，特別是有利于高熔點(diǎn)以及高純金屬和化合物材料。廣泛應(yīng)用于物理，生物，化學(xué)，材料以及電子等領(lǐng)域。



電感耦合等離子體增強(qiáng)反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)
品牌及型號(hào)：牛津儀器PlasmaPro 80 Cobra (https://plasma.oxinst.cn/products/icp-etching/80icp)

        系統(tǒng)通入反應(yīng)氣體使用電感耦合形成的等離子體輝光放電將氣體分解，產(chǎn)生的具有強(qiáng)化學(xué)活性的等離子體在電場(chǎng)加速作用下移動(dòng)到樣品表面，對(duì)樣品表面進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)生成揮發(fā)氣體，又有一定的物理刻蝕作用，該設(shè)備通過優(yōu)化的電極冷卻技術(shù)和出色的襯底溫度控制來實(shí)現(xiàn)高度穩(wěn)定的工藝結(jié)果。廣泛應(yīng)用于III-V族材料刻蝕工藝，二氧化硅和石英刻蝕，硅 Bosch和超低溫刻蝕工藝，用于失效分析的干法刻蝕解剖工藝，可處理封裝好的芯片、 裸晶片以及200mm晶圓等。



飛秒激光系統(tǒng)
       采用Spectra-Physics公司的Solstice Ace系統(tǒng)，其繼承了無需調(diào)整的安裝硬件，單獨(dú)的模塊化組件，能夠在10°C的溫度范圍內(nèi)運(yùn)行。Solstice Ace使用無調(diào)整的光學(xué)支架，可以保持穩(wěn)定性和性能。Solstice Ace 在1kHz時(shí)提供＞7W的功率，在5kHz時(shí)提供＞8W的功率，在10kHz時(shí)提供＞7W的功率，脈沖寬度在小于35fs至小于120fs之間，光束質(zhì)量?jī)?yōu)異。



拉曼成像系統(tǒng)
       采用WITec公司的300R系統(tǒng)，當(dāng)使用共聚焦顯微鏡結(jié)合光譜儀在每個(gè)測(cè)量點(diǎn)收集拉曼光譜或熒光光譜時(shí)，可以生成拉曼圖像或者熒光圖像，使樣品化合物的分布可視化。由于WITec拉曼系統(tǒng)的高度一致性，還可以生成體積掃描和3D圖像。