2021哈爾濱理工大學(xué)半導(dǎo)體物理研究生考試大綱
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2021哈爾濱理工大學(xué)半導(dǎo)體物理研究生考試大綱 正文
半導(dǎo)體物理
適用專業(yè)名稱:電子信息類(0854)集成電路工程方向
參考書目:
《半導(dǎo)體物理學(xué)》劉恩科 朱秉升 羅晉生 電子工業(yè)出版社2011 第七版
一、 考試目的與要求
考察考生對(duì)半導(dǎo)體物理的基本概念、基本原理和基本方法的掌握程度和利用基礎(chǔ)知識(shí)解決電子科學(xué)與技術(shù)相關(guān)問題的能力。要求考生對(duì)半導(dǎo)體物理的基本概念有較深入的了解,能夠系統(tǒng)地掌握半導(dǎo)體物理中基本定律的推導(dǎo)、證明和應(yīng)用,并具有綜合運(yùn)用所學(xué)知識(shí)分析問題和解決問題的能力。
二、 試卷結(jié)構(gòu)(滿分100分)
半導(dǎo)體物理 100分
題型比例:
1.名詞解釋 約20分
2.簡(jiǎn)答題 約40分
3.計(jì)算題 約40分
三、考試內(nèi)容與要求
(一)半導(dǎo)體的晶格結(jié)構(gòu)和電子狀態(tài)
考試內(nèi)容
半導(dǎo)體的晶格結(jié)構(gòu)和結(jié)合性質(zhì),半導(dǎo)體中的電子狀態(tài)和能帶,半導(dǎo)體中的電子運(yùn)動(dòng)和有效質(zhì)量,本征半導(dǎo)體的導(dǎo)電機(jī)構(gòu),空穴,硅和鍺及III-V族化合物半導(dǎo)體的能帶結(jié)構(gòu)。
考試要求
1.了解半導(dǎo)體的晶格結(jié)構(gòu)和結(jié)合性質(zhì)的基本概念。
2.理解半導(dǎo)體中的電子狀態(tài)和能帶的基本概念。
3.掌握半導(dǎo)體中的電子運(yùn)動(dòng)規(guī)律,理解有效質(zhì)量的意義。
4.理解本征半導(dǎo)體的導(dǎo)電機(jī)構(gòu),理解空穴的概念。
5.理解硅和鍺的能帶結(jié)構(gòu),掌握有效質(zhì)量的計(jì)算方法。
6.了解III-V族化合物半導(dǎo)體的能帶結(jié)構(gòu)。
(二)半導(dǎo)體中雜質(zhì)和缺陷能級(jí)
考試內(nèi)容
半導(dǎo)硅、鍺晶體中的雜質(zhì)能級(jí)。
考試要求
1.理解替位式雜質(zhì)、間隙式雜質(zhì)、施主雜質(zhì)、施主能級(jí)、受主雜質(zhì)、受主能級(jí)的概念。
2.簡(jiǎn)單計(jì)算淺能級(jí)雜質(zhì)電離能。
3.了解雜質(zhì)的補(bǔ)償作用、深能級(jí)雜質(zhì)的概念。
(三)半導(dǎo)體中載流子的統(tǒng)計(jì)分布
考試內(nèi)容
狀態(tài)密度,費(fèi)米能級(jí)和載流子的統(tǒng)計(jì)分布,本征半導(dǎo)體的載流子濃度,雜質(zhì)半導(dǎo)體的載流子濃度,一般情況下的載流子統(tǒng)計(jì)分布,簡(jiǎn)并半導(dǎo)體。
考試要求
1.理解并熟練掌握狀態(tài)密度的概念和表示方法。
2.理解并熟練掌握費(fèi)米能級(jí)和載流子的統(tǒng)計(jì)分布。
3.理解并熟練掌握本征半導(dǎo)體的載流子濃度的概念和表示方法。
4.理解并熟練掌握雜質(zhì)半導(dǎo)體的載流子濃度的概念和表示方法。
5.理解并掌握一般情況下的載流子統(tǒng)計(jì)分布。
6.理解并熟練掌握簡(jiǎn)并半導(dǎo)體的概念,簡(jiǎn)并半導(dǎo)體的載流子濃度的表示方法,簡(jiǎn)并化條件。了解禁帶變窄效應(yīng)。
(四)半導(dǎo)體的導(dǎo)電性
考試內(nèi)容
載流子的漂移運(yùn)動(dòng),遷移率,載流子的散射,遷移率與雜質(zhì)濃度和溫度的關(guān)系,電阻率及其與雜質(zhì)濃度和溫度的關(guān)系,強(qiáng)電場(chǎng)下的效應(yīng),熱載流子。
考試要求
1.理解遷移率的概念。并熟練掌握載流子的漂移運(yùn)動(dòng)。
2.理解載流子的散射的概念。
哈爾濱理工大學(xué)
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